微纳材料设计与制造研究中心

首届亚太原子层沉积大会（Asia-Pacific Atomic Layer Deposition, AP-ALD Conference）于2024年10月17日至20日在上海圆满举行，成为ALD技术发展史上的重要里程碑，成为推动全球ALD技术交流和合作的重要平台。华中科技大学陈蓉教授担任大会主席，韩国蔚山科学技术院的Soo-Hyun Kim教授为联合主席，共同主持了本次大会。此次大会聚集了超过300位来自世界各地的顶尖专家学者及行业领导者，共同探讨原子层沉积技术在微电子、光电显示、能源存储及催化等领域的最新进展。为期四天的会议通过大会报告、专题演讲、口头报告和海报展示等形式，促进了ALD技术的前沿应用与跨学科合作。来自学术界和工业界的专家围绕ALD技术的最新进展和未来发展展开了高层次交流，推动了技术创新，同时加强了跨学科和跨国界的合作。此次大会为ALD技术从基础研究向大规模应用的转化奠定了坚实基础，同时，也意味着亚太地区成功举办了首次高规格国际ALD会议，彰显了ALD技术在全球创新体系中的战略重要性。

华中科技大学微纳材料设计与制造研究中心的杨帆副教授、刘潇副教授、文艳伟副教授和曹坤副教授也各自主持了分会场。此外，刘潇、文艳伟和曹坤副教授在分会场中分享了各自研究领域的相关成果。文迪、高宇欣和胡志佳三名同学在会议上进行了演讲，展示了他们在ALD技术领域的最新研究成果。李豪杰、叶容利、蒋雪微、王威振、徐彦、马更、袁睿鸽和李博轩等人参与了海报展示，其中李豪杰、王威振和蒋雪微三名同学的海报因其研究质量和创新性获得了“十佳海报”的荣誉，表明了研究中心在科研和学术培养方面的卓越能力。

在本次大会的分论坛中，南京大学的丁孙安教授、仁川国立大学的Han-Bo-Ram Lee教授、香港科技大学的Man Wong教授、江苏微导纳米科技股份有限公司首席技术官黎微明教授、中国科学技术大学的路军岭教授、三星电子的Sang Ick Lee研究员、釜山国立大学的Se Hun Kwon教授等多位在各自领域享有国际声誉的顶尖学者和技术专家，分享了他们的最新研究成果。思锐智能、北方华创、Swiss Cluster、Super ALD、源象化学等业内知名企业也积极参与了本次大会。这些公司的参与进一步彰显了大会在产业界的广泛影响力，并为学术与工业的深度交流搭建了重要平台，推动了前沿科技与实际应用的紧密结合。

此外，本次大会中，华中科技大学微纳材料设计与制造研究中心的志愿者团队在大会中发挥了关键作用，极大地促进了大会的成功。这些志愿者以其卓越的专业性和热情，通过无私的奉献和周密的组织，确保了大会各环节的顺利进行。他们在接待来宾、协调会场、提供技术支持及应急管理等方面的努力，使得所有与会者能够完全专注于学术交流和知识学习，极大地提高了会议的效率和效果。一位国际与会者分享了他的感受：“The conference was very well-organized. It was a fantastic experience for international participants like us.” （“会议组织得非常好。对我们这些国际参与者来说，是一次极佳的体验。”）

本次大会不仅巩固了亚太地区在ALD技术领域的国际领导地位，也为全球ALD技术的协作创新奠定了基础。凭借其原子级精度，ALD技术正在引领多个领域的技术变革。本次会议进一步加速了ALD技术的全球发展和应用，未来的潜力不可估量。MDNM团队为能在这一里程碑式的盛会上发挥重要作用感到自豪。